Tecnai

Technai 20 в материаловедении

Просвечивающие Электронные Микроскопы серии Tecnai - это новые, высокотехнологичные приборы, соответствующие последнему слову техники. Управляемые операционной системой Windows NT, они обеспечивают высокую производительность с универсальностью, высокую продуктивность с легкостью использования и безопасностью для каждого пользователя. Все это делает просвечивающую электронную микроскопию более доступной для пользователей. В микроскопах Tecnai все операции и детекторы, включая STEM, TB и CCD камеры, EDX и EELS детекторы и энергетические фильтры объединены в одну единую систему. Все они управляются с помощью одного монитора, одного манипулятора «мышь» и одной клавиатуры.

Фундаментальное понимание свойств материалов начинается с их характеристики. Морфология, кристаллическая структура, химический состав, структура границ раздела и поверхностей, а также дефекты оказывают влияние на свойства материалов. Просвечивающая электронная микроскопия является мощным средством для изучения известных и новых материалов на атомном уровне. Она имеет дело с множеством сигналов различного типа, несущих полезную информацию. Tecnai 20 был специально разработан для получения и анализа этих сигналов максимально эффективно. Множество различных методик, включая электронную микроскопию высокого разрешения, режимы светлого и темного поля и растровый режим, электронная дифракция и точечный микроанализ делают Tecnai 20 ключом к анализу материалов.

Микроскоп Tecnai 20 может быть использован в различных комплектациях. Стандартная комплектация микроскопа включает в себя хорошо зарекомендовавшие технические новшества такие как: объективная линза типа S-TWIN для работы с высоким разрешением при больших углах наклона (до 40 градусов ) и CompuStage (компьютеризированный столик объекта) для точного контроля за ориентацией объекта и при исключительной механической стабильности.

Tecnai 20 может быть укомплектован растровой приставкой, энергетическим фильтром и детектором рентгеновского излучения, полностью встроенными в микроскоп. Этот инструмент представляет собой уникальную комбинацию надежности, легкости использования и производительности при изучении материалов. Где бы он не использовался: при стандартном рутинном анализе или работе на уровне кристаллической решетки, он гарантирует высочайшую скорость получения и качество информации.

Спецификация

Источник электронов

W или LaB6 эмиттер

Высокая стабильность и длительный срок службы катода

Изображение

Оригинальная (патент) объективная линза S-TWIN (возможна установка объективной линзы типа TWIN)

Большой наклон (40 градусов)и большая область обзора (70 градусов наклон для линзы типа TWIN)

Юстировка с скомпенсированной кома-аберрацией для центрирования объективной линзы при высоком разрешении

Увеличение воспроизводится с точностью 1.5%

Отсутствие поворота изображения и дифракционной картины при изменении увеличения или длины камеры

Встроенная CCD камера

Емкость фотомагазина 56 пленок

Дифракция

Использование различных дифракционных методик от когерентного освещения при получении дифракции от выделенной области до

микродифракции и дифракции в сходящемся пучке

Максимальный угол сходимости до 12 градусов

Получение дифракционных картин при определенных энергиях электронов при малых длинах камеры (менее 150 мм)

STEM

Режимы светлого и кольцеобразного темного пола

Детекторы вторичных и обратно рассеянных электронов (только с линзой типа TWIN)

Увеличение до 480000

Разрешение лучше, чем 1 нм

Микроанализ

Превосходный EDX детектор

Низкий уровень шума вносимый системой при EDX исследованиях

Встроенные детекторы EDX , PEELS и энергетический фильтр

Дополнительные возможности построения профилей и карт распределения элементов с помощью EDX и EELS детекторов

Гониометрический столик объекта

CompuStage, боковой ввод объектов, управляется компьютером, обладает высокой стабильностью

Максимальный наклон для любых значений X, Y, Z , альфа, бета

Широкий выбор различных держателей, включая держатель с двумя осями наклона и низким уровнем фона рентгеновского излучения

Точность воспроизведения записанных положений объекта менее = 0.1 мкм (X,Y) и менее = 0.1 градусов (альфа)

Максимальный дрейф менее 1 нм/мин при использовании стандартного держателя

Размер образца 3 мм, перемещение по X и Y направлениям 2 мм

Вакуумная система

Раздельно откачиваемая колонна с шлюзованием пушки и фотокамеры

Пушка и колонна откачиваются отдельными гетероионными насосами

Сверхвысокий вакуум для предотвращения загрязнения объектов

Давление в камере объекта и пушке менее 2.7 х 10 -5 Па

Смена фотоматериалов и объекта без выключения высокого напряжения и уменьшения накала катода.